한민일보 서울포커스 윤민경 기자 | 특허청은 산·학·연의 연구 개발(R&D) 기획을 지원하기 위해 양자와 인공지능 분야에서 표준특허 선점이 필요한 유망기술 발굴에 착수한다고 밝혔다.

양자와 인공지능은 전 세계 산업 구조와 시장을 완전히 재편할 수 있는 파괴적 혁신 기술이다. 지난 8월 한-미-일 정상회담에서 논의된 3국간 세계 표준화 협력 대상 기술에도 포함됐다. 현재 여러 표준화 기구에서 이들 분야의 표준화가 논의되고 있으나, 아직은 초기 단계이다.

표준특허 선점 시 관련 시장을 선도할 기회가 열리는 만큼, 특허청은 표준특허 확보 관점에서 유망기술을 발굴해 우리 산·학·연의 경쟁력 향상에 일조하겠다는 방침이다.

유망기술 발굴은 표준과 특허정보의 종합적인 분석을 기반으로 이루어진다. 표준 반영 가능성, 우리나라의 특허 경쟁력 등 여러 지표를 활용한 종합적 평가를 바탕으로 산·학·연 전문가의 자문을 통해 연구 개발(R&D)·표준화 현장의 시각을 더하는 방식으로 추진된다.

특허청은 올해 연말까지 유망기술을 도출하고 각 유망기술별 표준특허 확보 전략을 함께 실은 종합보고서를 발간할 예정이다. 보고서는 표준특허누리집을 통해 배포할 계획이다.

특허청 목성호 산업재산정책국장은 “양자와 인공지능은 미래 산업의 ‘국면 전환자’로 불리는 만큼 표준특허를 선점해 시장 영향력을 키울 필요가 있다”며 “특허청은 앞으로도 연구 개발(R&D) 효율성 제고를 위한 지원을 계속 이어나갈 것”이라고 밝혔다.